Nanometre scale 3D nanomechanical imaging of semiconductor structures from few nm to sub-micrometre depths
Anno: 2015
Autori: Kolosov O.V., Dinelli F., Robson A., Krier A., Hayne M., Fal’ko VI., Henini M.
Affiliazione autori: Univ Lancaster, Dept Phys, Lancaster LA1 4YB, England; CNR INO, Pisa, Italy; Univ Nottingham, Sch Phys & Astron, Nottingham, England
Abstract: N.A.
Titolo Convegno:
Luogo:
Parole chiavi: FORCE MICROSCOPY; SUBSURFACE